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等离子抛光的原理及工艺特点

等离子抛光利用等离子体在材料表面产生的高能粒子，通过化学反应和物理作用---材料表面的处理技术。其原理和工艺特点如下：

原理：

等离子体生成：通过加入能量（电场或射频场），使气体分子电离，形成等离子体。

高能粒子效应：等离子体中的电子、离子和自由基具有高能量，能够与材料表面发生化学反应或物理撞击。

表面处理：高能粒子对材料表面进行清洁、去污、抛光，等离子抛光加工，去除微小的凹凸和污染物，提高表面光洁度和均匀性。

等离子抛光加工

金属电解质等离子抛光技术

电解质-等离子抛光技术是采用的等离子电解技术，去除微观突起位置的技术。

其加工原理图如图1.1所示，由于其抛光液采用的是低浓度中性盐溶液（中性盐溶液可以直接排放），抛光过程中产生的废水只是含有等离子抛去的金属，污染---小，因此，它还是一种“准绿色”的抛光方法，加工成本低，对于机械抛光无法加工的具有复杂形状的零件，电解质-等离子抛光能够获得一致性---的加工表面。该方法的加工原理是气体放电与化学作用的复合反应，不会与零件表面发生直接接触，因此不会产生微裂纹和残余应力，延长了零件的使用寿命。该技术主要应用于对不锈钢、铜合金、铝合金、钛合金等金属零部件的抛光、去毛刺，可以解决航天领域中诸如阀体去毛刺等难题。